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半導體 · 電子

晶圓廠、晶片封裝、TFT-LCD 微影間 ISO Class 1–5 末端高效過濾,保障製程良率。

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晶圓廠、晶片封裝、TFT-LCD 微影間 ISO Class 1–5 末端高效過濾,保障製程良率。

行業背景

半導體晶圓製造、晶片封裝與液晶面板生產對空氣潔淨度要求極為嚴苛,微粒污染會直接導致良率下降與缺陷率上升。按 ISO 14644 標準,微影、蝕刻、沉積等關鍵工藝區需維持 ISO Class 1–5 的潔淨環境,依賴末端高效過濾長期穩定運行。

半導體晶圓潔淨車間

濾材應用方案

創潔濾材為半導體廠房提供 H13–H14 級超細玻纖 / 熔噴濾材,適配 FFU 風機過濾單元、潔淨天花模組與風道末端,過濾效率 ≥99.95% @MPPS,初阻力低、容塵量大,保障潔淨度長期穩定。

穩定的低出風阻力與批次一致性,幫助客戶降低空調能耗、延長維護週期,滿足晶圓廠 7×24 小時連續運行的高可靠性要求。

濾材價值

高效 · 穩定 · 合規 · 可定製

高效過濾

H11–H14 等級,過濾效率 ≥99.95% @MPPS,攔截微顆粒與細菌。

低阻力高容塵

初阻力低、容塵量大,降低系統能耗並延長濾芯壽命。

權威認證

EN1822 · UL586 · IATF16949 · ISO9001,滿足行業合規。

規格定製

克重 / 等級 / 尺寸按工況定製,OEM / ODM 靈活交付。

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